UV cleaner, Model UDM-08M

자외선 클리너, 자외선 세정기

        

          자외선 세정기(UV Ozone cleaner) 는 글래스, 필름 및 금속 표면에 생성된 유기물과 수분을 제거하며, 재료의 표면을 개질하여 친수성을 띄게 합니다. 결과적으로 도포되거나 코팅되는 물질이 기판에 잘 부착되도록 합니다.

      자외선 세정기의 램프에서 발생하는 184.9nm의 파장은 유기물을 분해해서 수소와 탄소로 분해하며, 253.7nm의 파장은 산소 분자로 부터 오존을 만들고 유기물로부터 제공된 수소, 탄소와 결합하여 유기물울 제거하게 됩니다.

      한편 자외선 세정기에서 제공하는 OZONE(O3)는 각종 기판의 표면과 화학적, 물리적으로 반응하여 필름의 부착력을 향상시킵니다. 이러한 성능은 고가의 플라즈마 표면처리장치를 대체할 수 있습니다, 

 

 

P/N   Feature
UDM-08M


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Feature

 

- Special Low Pressure Superfine Mercury Lamp
- Uniform irradiation and high light intensity
- Small and compact design
- Easy operation
- Easy lamp change
- Low cost
- Low running cost

 

제품명: UV Dry Cleaning Equipment (자외선 오존 세정장치)
모델:    UDM-08M
 

 Specifications

 

Substrate Size

200x 200x t 4.0mm
UV Lamp Low Pressure Mercury Lamp
Weve length 185nm, 254nm
Work Tray SUS
Substrate Alignment No need(any position)
Exposure time Optional setting
Cooling Fan cooling
Dimension 330Wx 460Wx 240H mm
Weight 15 Kg
 

Application

 

- Silicon wafer, GaAs wafer, Sapphire wafer, LCD glass, Mask glass, BGA and CSP electrodes, Thermal heads, Lens and optical components, Metals, Solar cells
-


- It is designed by customers spec, and various applications can be corresponded easily.

 

P/N   Feature
UVC-30


        


Feature

 

- Special Low Pressure Superfine Mercury Lamp
- Uniform irradiation and high light intensity
- Small and compact design
- Easy operation
- Easy lamp change
- Low cost
- Low running cost

 

 

제품명: UV Dry Cleaning Equipment (자외선 오존 세정장치)
모델:    UVC-30
 

 Specifications

Substrate Size

250x 250x t 4.0mm
UV Lamp Low Pressure Mercury Lamp
Weve length 185nm, 254nm
Work Tray SUS
Substrate Alignment No need(any position)
Exposure time Digital timer, 1~999sec.
Cooling Fan cooling
Dimension 455Wx 445Wx 240H mm
Weight 15 Kg

 

 

Application

 

- Silicon wafer, GaAs wafer, Sapphire wafer, LCD glass, Mask glass, BGA and CSP electrodes, Thermal heads, Lens and optical components, Metals, Solar cells
-

       

       

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